ASML曾表示全球5纳米以下的工艺必需它的EUV光刻机，谁也无法替代它的地位，然而如今却有厂商表示可以绕开EUV光刻机生产先进工艺，吓坏了ASML。
在光刻机行业，除了ASML之外，其实还有日本的尼康和佳能，尼康已研发成功浸润式光刻机，不过它的光刻机技术与ASML存在较大差距，这也导致尼康难以与ASML竞争。
佳能则认识到在光刻机市场已很难与ASML竞争，选择了另辟蹊径发展新的芯片制造设备，那就是NIL纳米压印技术，该项技术在几年前就已取得突破，并被日本铠侠用于生产存储芯片。
不过此前NIL技术只能用于生产10纳米以上的工艺，去年佳能表示量产了10纳米的NIL工艺，近期佳能更表示5纳米的NIL工艺也已突破，预计到2026年实现2纳米的NIL工艺。
相比起采用EUV光刻机生产5纳米以下的先进工艺，NIL工艺的成本可以降低三成到五成，越先进的工艺成本就比ASML更低，这已获得了业界的认可，近期SK海力士就采用了NIL工艺，这是日本厂商之外第一家采用佳能NIL设备。
